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chemische Gasphasenabscheidung

 
     
  CVD, chemical vapour deposition, ein Verfahren zur Gasphasenzüchtung, bei dem gasförmige Verbindungen, die Anteile der zu kristallisierenden Substanz enthalten, in einer Abscheidungsreaktion Kristalle und gasförmige Reaktionsprodukte bilden. Dabei kann die Reaktion generell folgendermassen aussehen:


AB(g)+CD(g)→AD(s)+BC(g).


Diese Reaktion ist der entscheidende Unterschied zu einer rein physikalischen Abscheidung (PVD). Die Temperatur, der Gesamtdruck und die Partialdrucke werden so gewählt, dass das gewünschte Abscheidungsprodukt AD(s) auf der rechten Seite entsteht. Sind die Stoffe für die gasförmigen Ausgangsverbindungen metallorganischer Natur, so wird auch von MOCVD gesprochen.
 
 

 

 

 
 
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